《半導體技術》期刊簡介：

　　《半導體技術》以嚴謹風格，權威著述，在業內深孚眾望，享譽中外，對我國半導體事業的發展發揮了積極的作用。"向讀者提供更好資訊，為客戶開拓更大市場，提供技術成果展示、轉化和技術交流的平臺，達到了促進我國半導體技術不斷發展的目的"是《半導體技術》的追求，本刊一如既往地堅持客戶至上，服務第一，竭誠向讀者提供多元化的信息。趨勢與展望：全面闡述半導體技術與應用的發展趨勢;專題報道：每期就設計、生產、應用等企業關注的熱門技術及焦點論題，進行有深度、廣度的全面剖析;器件制造與應用：半導體器件的設計和制造及在各種領域中的應用;工藝技術與材料：介紹最新的半導體技術制作工藝和該領域用的新材料;集成電路設計與開發：各種IC的設計和應用技術、設計工具及發展動向;封裝、測試與設備：介紹器件、芯片、電路的測試、設備和封裝的前沿技術;MEMS技術：現代管理：半導體代工廠、潔凈廠房、半導體用水及氣體、化學品，等管理技術;綜合新聞：及時發布世界各地半導體最新產品及技術信息。《半導體技術》的稿件來源于全國各主要研究機構、大專院校和企事業單位等。

　　辦刊宗旨：

　　《半導體技術》(月刊)創刊于1976年，是由信息產業部主管，中國半導體行業協會、半導體專業情報網、中電科技集團公司十三所主辦，業內權威的國家一級刊物之一。它以嚴謹風格，權威著述，在業內深孚眾望，享譽中外，對我國半導體事業的發展發揮了積極作用。“向讀者提供更好資訊，為客戶開拓更大市場”。榮獲中國科技論文統計用刊。

　　期刊欄目：

　　趨勢與展望、 專題報道、 應用長廊、設計與開發、支撐技術、 新品推薦

　　半導體技術雜志論文

　　硅溶膠拋光液對硅單晶拋光片表面質量的影響

　　期刊收錄：

　　CA 化學文摘(美)CSCD 中國科學引文數據庫來源期刊(含擴展版)JST 日本科學技術振興機構數據庫(日)Pж(AJ) 文摘雜志(俄)SA 科學文摘(英)萬方收錄(中)上海圖書館館藏劍橋科學文摘北大核心期刊(中國人文社會科學核心期刊)國家圖書館館藏文摘雜志物理學、電技術、計算機及控制信息數據庫知網收錄(中)統計源核心期刊(中國科技論文核心期刊)維普收錄(中)Caj-cd規范獲獎期刊全國中文核心期刊

　　半導體技術雜志社征稿要求：

　　1、文稿應資料可靠、數據準確、具有創造性、科學性、實用性。應立論新穎、論據充分、數據可靠，文責自負(嚴禁抄襲)，文字要精煉。

　　2、姓名在文題下按序排列，排列應在投稿時確定。作者姓名、單位、詳細地址及郵政編碼務必寫清楚，多作者稿署名時須征得其他作者同意，排好先后次序，接錄稿通知后不再改動。

　　3、文章要求在2000-2400字符，格式一般要包括：題目、作者及單位、郵編、內容摘要、關鍵詞、正文、參考文獻等。文章標題字符要求在20字以內。

　　4、文章中的圖表應具有典型性，盡量少而精，表格使用三線表;圖要使用黑線圖，繪出的線條要光滑、流暢、粗細均勻;計量單位請以近期國務院頒布的《中華人民共和國法定計量單位》為準，不得采用非法定計量單位。

　　5、為縮短刊出周期和減少錯誤，來稿一律使用word格式，并請詳細注明本人詳細聯系方式。

　　6、編輯部對來稿有刪修權，不同意刪修的稿件請在來稿中聲明。我刊同時被國內多家學術期刊數據庫收錄，不同意收錄的稿件，請在來稿中聲明。