真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報雜志基礎(chǔ)信息：

《真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報》由中國真空學(xué)會主辦,是中國科學(xué)技術(shù)協(xié)會審定的國家級自然科學(xué)技術(shù)刊物,雙月刊,國內(nèi)外公開發(fā)行。本刊論文被EI、CA、SA和INSPEC等國際著名檢索系統(tǒng)收錄。我國的香港與臺灣地區(qū)均有訂閱，有一定的影響力。在國內(nèi)各高等院校科學(xué)院所涉及到真空科學(xué)與技術(shù)論文都大多數(shù)向本刊投稿，已成為國內(nèi)外關(guān)學(xué)者發(fā)表高水平科研成果的主要載體。

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《真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報》刊載的論文的內(nèi)容主要涉及如下學(xué)科:真空科學(xué)與技術(shù)、薄膜物理與工藝、表面及界面物理、應(yīng)用表面科學(xué)、物理電子學(xué)、電子材料與處理、納米科學(xué)與技術(shù)、電真空技術(shù)、核真空技術(shù)及真空冶金等。本刊歡迎上述學(xué)科領(lǐng)域內(nèi)的科研論文、研究報告、工藝研究、動態(tài)綜述、工業(yè)技術(shù)等稿件,對于開創(chuàng)性的發(fā)明、發(fā)現(xiàn)等新成果,將優(yōu)先發(fā)表。

真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報雜志訂閱方式：

ISSN：1672-7126、CN：11-5177/TB、出版地：北京市。

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1.文稿務(wù)必立論明確,論證嚴(yán)謹,數(shù)據(jù)可靠,文字精練。特約稿、綜述論文一般8000字以內(nèi),學(xué)術(shù)論文6000字以內(nèi),技術(shù)交流4000字以內(nèi),科技簡訊2000字以內(nèi),來稿請?zhí)詈弥袌D分類號。

2.文稿要求用A4紙單面1.5倍行間距,小四號字打印,一式兩份。來稿時,請附上作者中聯(lián)系人、聯(lián)系電話和電子信箱地址。如可能,請附寄磁盤。

3.稿件請按本刊格式整理,除正文以外,要同時給出中、英文的篇名、作者姓名和工作單位、論文摘要300字左右、關(guān)鍵詞4～6個,參見“關(guān)于在學(xué)術(shù)論文中規(guī)范關(guān)鍵詞選擇的決定”。

真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報雜志社編輯部征稿后柵型場發(fā)射顯示器竄壓現(xiàn)象的研究94GHzTE02模回旋管Vlasov模式變換器的設(shè)計與模擬非晶Ni-Al-N薄膜用作Cu互連阻擋層的研究改進2.5維多頻大信號互作用程序模擬螺旋線行波管非線性交調(diào)互調(diào)特性氦質(zhì)譜檢漏儀入口壓力與顯示值的關(guān)系研究HT-7托卡馬克中破裂等離子體放電對器壁放氣的影響真空卷繞鍍膜機開卷張力控制系統(tǒng)研究基于有限元的單軸雙銷鉸鏈?zhǔn)酱箝T機構(gòu)變形分析原子層沉積系統(tǒng)設(shè)計的研究摻硅類金剛石膜的摩擦學(xué)性能研究直管磁過濾弧離子鍍CrN涂層改善304不銹鋼表面性能研究磁場對電弧離子鍍深管內(nèi)壁沉積TiN薄膜的影響激光熱處理對類金剛石薄膜結(jié)構(gòu)的影響納米金紅石相TiO2的制備及其介電性能實驗研究a-SiNx∶H薄膜退火前后微結(jié)構(gòu)的Raman譜研究非晶FeSiB薄膜中的巨磁阻抗效應(yīng)等離子體氣相沉積非晶SiO2薄膜的特性研究直流反應(yīng)磁控濺射制備二氧化鈦薄膜的光催化性研究彩色等離子體顯示器放電氣體的研究雙峰式顯示管的特點及電路設(shè)計俄歇電子全息的計算機模擬研究和數(shù)值重現(xiàn)CVD金剛石薄膜拋光技術(shù)的研究進展定容式氣體微流量標(biāo)準(zhǔn)裝置用離子束輔助沉積和計算機控制系統(tǒng)制備納米薄膜復(fù)合材料IBADMoS2-Ta復(fù)合膜的氧化行為研究真空蒸發(fā)沉積聚苯胺晶態(tài)薄膜的研究射頻激勵CO2波導(dǎo)激光器的放電技術(shù)紅外用超薄PtSi膜的一種制備新方法電渦流法檢測罐頭真空度的探頭研制和儀器智能化共面雙柵極金剛石薄膜FEAs的計算機模擬橫向巨磁阻抗效應(yīng)中磁導(dǎo)率張量的理論研究電源對介質(zhì)阻擋放電(DBD)激發(fā)準(zhǔn)分子(XeCl*)輻射的有限元法在42英寸多槍彩色顯像管玻殼設(shè)計中的應(yīng)用β-FeSi2和β-Fe(C,Si)2薄膜的電子顯微及X射線衍射研究薄膜場發(fā)射陰極中納米線密度的理論優(yōu)化MoS2基板上外延生長C60薄膜的分子動力學(xué)模擬系統(tǒng)級模擬的MEMS器件宏模型電子回旋共振等離子體用于聚四氟乙烯材料表面改性利用脈沖調(diào)制電子探束測量電子誘導(dǎo)脫附閾值能量射頻輝光放電等離子體化學(xué)氣相沉積類金剛石膜的性能研究微波ECR等離子體刻蝕系統(tǒng)微光像增強器信噪比測試技術(shù)研究鉬酸鉛晶體表面紅外增透膜的研究