電子工業(yè)專用設(shè)備雜志基礎(chǔ)信息：

《電子工業(yè)專用設(shè)備》雜志是由中國信息產(chǎn)業(yè)部主管,中國電子科技集團公司第四十五研究所主辦,中國電子專用設(shè)備工業(yè)協(xié)會會刊；是業(yè)內(nèi)最具權(quán)威的國內(nèi)外公開發(fā)行的國家級刊物。本刊1971年創(chuàng)刊，已走過了三十多年的歷程,作為信息平臺一直以作風(fēng)嚴謹、權(quán)威著述在業(yè)界頗具影響力。加強國際技術(shù)的交流與合作，促進產(chǎn)品與市場相結(jié)合，面向整個電子設(shè)備、生產(chǎn)行業(yè)的管理者、電子工程師、采購人員和市場開發(fā)人員，全面介紹專用設(shè)備領(lǐng)域內(nèi)的新產(chǎn)品，新技術(shù)，新動態(tài)。保持刊物的國際性、權(quán)威性、實用性。本刊擁有一批高素質(zhì)，嚴要求的編輯隊伍，辦刊30多年來積累了一批由多年從事電子專用設(shè)備研究的資深專家、學(xué)者和企業(yè)核心電子工程師組成的編委會成員，在確保刊物辦得精、深、廣的同時，保留新、專的特性。同時積累了一批在設(shè)備領(lǐng)域頗具名望的領(lǐng)導(dǎo)者、知名院士、政府部門主管組成的編輯指導(dǎo)委員會，對刊物進行嚴格指導(dǎo)和審核，使我們的刊物朝著健康正確的方向發(fā)展。曾用刊名：半導(dǎo)體設(shè)備。

電子工業(yè)專用設(shè)備雜志辦刊宗旨：

《電子工業(yè)專用設(shè)備》雜志辦刊宗旨：引領(lǐng)產(chǎn)業(yè)發(fā)展，促進行業(yè)交流，推廣產(chǎn)品應(yīng)用。

電子工業(yè)專用設(shè)備雜志期刊榮譽：

本刊為《中國科技論文統(tǒng)計》和《中國電子科技文摘》用刊，同時是《中國學(xué)術(shù)期刊（光盤版）》、中國期刊網(wǎng)、萬方資源系統(tǒng)（ChinaInfo）數(shù)字化期刊網(wǎng)及北極星網(wǎng)站全文收錄期刊。是目前國內(nèi)電子專用設(shè)備領(lǐng)域唯一獲正規(guī)出版發(fā)行的權(quán)威專業(yè)刊物，多年來為推動我國電子專用設(shè)備的發(fā)展發(fā)揮了極其重要的作用。

電子工業(yè)專用設(shè)備雜志欄目設(shè)置：

本刊欄目設(shè)置：專題報道、專家論壇、發(fā)展與趨勢、（技術(shù)動向）、行業(yè)動態(tài)、（業(yè)界要聞）、新設(shè)備新工藝、（論文研制）、制造與工藝、市場與應(yīng)用、企業(yè)之窗、產(chǎn)品擷英。

電子工業(yè)專用設(shè)備雜志訂閱方式：

ISSN：1004-4507，CN：62-1077/TN，地址：北京市朝陽區(qū)安貞里二區(qū)1號樓金甌大廈418室，郵政編碼：100029。

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電子工業(yè)專用設(shè)備雜志社投稿信息

1．文章標(biāo)題：一般不超過300個漢字以內(nèi)，必要時可以加副標(biāo)題，最好并譯成英文。

2．作者姓名、工作單位：題目下面均應(yīng)寫作者姓名，姓名下面寫單位名稱（一、二級單位）、所在城市（不是省會的城市前必須加省名）、郵編，不同單位的多位作者應(yīng)以序號分別列出上述信息。

3．提要：用第三人稱寫法，不以“本文”、“作者”等作主語，100－200字為宜。

4．關(guān)鍵詞：3－5個，以分號相隔。

5．正文標(biāo)題：內(nèi)容應(yīng)簡潔、明了，層次不宜過多，層次序號為一、（一）、1、（1），層次少時可依次選序號。

6．正文文字：一般不超過1萬字，用A4紙打印，正文用5號宋體。

7．?dāng)?shù)字用法：執(zhí)行GB/T15835－1995《出版物上數(shù)字用法的規(guī)定》，凡公元紀年、年代、年、月、日、時刻、各種記數(shù)與計量等均采用阿拉伯?dāng)?shù)字；夏歷、清代及其以前紀年、星期幾、數(shù)字作為語素構(gòu)成的定型詞、詞組、慣用語、縮略語、臨近兩數(shù)字并列連用的概略語等用漢字數(shù)字。

8．圖表：文中盡量少用圖表，必須使用時，應(yīng)簡潔、明了，少占篇幅，圖表均采用黑色線條，分別用阿拉伯?dāng)?shù)字順序編號，應(yīng)有簡明表題（表上）、圖題（圖下），表中數(shù)字應(yīng)注明資料來源。

9．注釋：是對文章某一特定內(nèi)容的解釋或說明，其序號為①②③……，注釋文字與標(biāo)點應(yīng)與正文一致，注釋置于文尾，參考文獻之前。

10．參考文獻：是對引文作者、作品、出處、版本等情況的說明，文中用序號標(biāo)出，詳細引文情況按順序排列文尾。以單字母方式標(biāo)識以下各種參考文獻類型：普通圖書[M]，會議論文[C]，報紙文章[N]，期刊文章[J]，學(xué)位論文[D]，報告[R]，標(biāo)準(zhǔn)[S]，專利〔P〕，匯編[G]，檔案[B]，古籍[O]，參考工具[K]。

11．基金資助：獲得國家基金資助和省部級科研項目的文章請注明基金項目名稱及編號，按項目證明文字材料標(biāo)示清楚.

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電子工業(yè)專用設(shè)備雜志社編輯部征稿信息產(chǎn)業(yè)部電子第四十五研究所研制的150mm精密自動劃片機銷售勢猛當(dāng)前IC的工藝與技術(shù)新動向拓展國產(chǎn)電子專用設(shè)備市場份額SMT測試技術(shù)IC業(yè)材料切割設(shè)備發(fā)展?fàn)顩r業(yè)界新聞集錦0.1μm線寬主流光刻設(shè)備—193nm(ArF)準(zhǔn)分子激光光刻BG-105型分步投影光刻機調(diào)平控制系統(tǒng)分析與軟件處理元件貼裝設(shè)備的選擇工藝系統(tǒng)剛度產(chǎn)生的誤差原理與分析我國第一臺全視覺多功能自動貼片機在廣州奧特公司研制成功多晶硅真空區(qū)熔提純技術(shù)研究硅片濕法清洗技術(shù)與設(shè)備異丙醇在硅堿性腐蝕液中的作用硼擴散片彎曲度的控制技術(shù)研究如何配置SMT生產(chǎn)線氮氣保護對無鉛焊接工藝溫度窗口的影響太陽能電池生產(chǎn)線中的新型等離子體刻蝕機的研制半導(dǎo)體器件管腳漏電流檢測技術(shù)的研究LTCC基片的飛針測試工藝研究VLSI提升全球半導(dǎo)體及設(shè)備預(yù)測偏光片除泡機工藝流程的改進